资料来源：驾驶室EUV（极紫外光刻）光刻机是7nm以下节点工艺技术所必需的，但是目前，中国尚未使用EUV设备。中芯国际董事长兼执行董事周子学几天前回应投资者的提问时说，对于基于相关商业协议的设备采购公司，他们不会就单一设备的采购发表评论。公司目前的批量生产和主要研究项目暂时不需要EUV光刻机。光刻是半导体芯片制造中最耗时且成本最高的环节之一。它决定了芯片的工艺水平。通常所说的XXnm工艺主要取决于光刻机的水平。经过10nm制程，难度变得越来越困难。雕刻机也需要升级到EUV级别。台积电在第一代7nm工艺中没有使用EUV光刻机，但是在7nm之后的工艺中很难避免使用EUV光刻机。从理论上讲，可以通过多次曝光来制造5nm级芯片，但是成本很高。费率都是一个问题，EUV光刻机不能被拒绝。目前，EUV光刻机只能由荷兰ASML公司生产，单个装置的售价超过1.2亿欧元，约合人民币10亿元。先前的报告显示，中芯国际已经订购了EUV光刻机用于先进的工艺研发，该机应该在2019年交付，但ASML尚未获准销售。此外，高盛还预测了中芯国际的技术升级路线，相信中芯国际可以在2022年升级到7纳米制程，并在2024年下半年升级到5纳米制程，并且2025年的毛利率将增加到更多。超过30％。在14nm工艺之后，中芯国际还具有N + 1和N + 2生成工艺。与14nm相比，N + 1工艺的性能提高了20％，功耗降低了57％，逻辑面积减少了63％，SoC面积减少了55％，后续N + 2工艺的性能和成本分别为更高。两种工艺均不需要EUV光刻机。 N + 1流程已于去年第四季度完成，目前处于客户产品验证阶段。预计第四季度将实现量产。 -END-＆amp; nbsp;法国也加入该小组，以“压制”该组织。华为吗＆amp; nbsp;高盛：中芯国际将在2024年下半年升级到5nm工艺。重大突破！这款国产芯片已通过世界顶级安全认证