11月16日消息据上周韩国媒体报道，韩国当地公司在EUV光刻技术方面取得了长足进步。但是它没有提到这是哪家公司。可以合理地推测它应该涉及韩国的整个半导体光刻行业。 EUV光刻技术是多种先进技术的复合体，例如多层反射镜，多层掩模，保护膜，光源和注册表。在过去的十年中，包括三星电子在内的全球公司都进行了深入的研究和开发，以确保该技术处于领先地位。最近，代工公司（意为三星）已开始使用5纳米EUV光刻技术来生产智能手机的应用处理器（AP）。按公司划分，世界六大公司占专利申请总量的59％，卡尔蔡司（德国）占18％，三星电子（韩国）占15％，ASML（荷兰）占11 ％，S＆amp; STech（韩国）占8％，TSMC（台湾）占6％，SK Hynix（韩国）占1％。从具体技术项目看，曝光设备技术的专利申请量占31％，光罩技术的申请量占28％，其他申请量占9％。在工艺技术领域，三星电子占39％，台积电占15％。在光掩模领域，S＆amp; S Technology占28％，Hoya（日本）占15％，汉阳大学（韩国）占10％，Asahi Glass（日本）占10％，三星电子占9％。据了解，韩国媒体还提到了韩国的专利数量。根据“最近十年（2011-2020）的专利申请报告”，由韩国知识产权局（KIPO）颁发的许可，在2019年，在韩国提交的专利申请数量为40件。外国公司超过10家。韩国媒体说，这是韩国首次提交比外国公司更多的专利申请。到2020年，韩国提出的专利申请数量将是外国公司的两倍以上。